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      奧林巴斯顯微鏡
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      奧林巴斯倒置金相顯微鏡
      奧林巴斯倒置金相顯微鏡

      產品型號:GX53
      發布時間:2018-6-8 14:15:34
      訪問次數:408 次

      奧林巴斯顯微鏡-奧林巴斯倒置金相顯微鏡介紹

      奧林巴斯倒置金相顯微鏡 GX53快速分析厚、大樣本材料。

      設計用于鋼,汽車,電子和其他制造業,GX53顯微鏡提供清晰的圖像,可以很難捕捉到使用傳統的顯微鏡觀察方法。當與奧林巴斯流圖像分析軟件相結合時,顯微鏡簡化了從觀察到圖像分析和報告的檢查過程。

      快速檢查,先進功能

      快速觀察、測量和分析冶金結構。

      分析工具

      1組合觀測方法產生異常圖像

      2輕松創建全景圖像

      3創建所有焦點圖像

      4捕捉光明和黑暗的區域

      材料科學優化

      1。材料科學軟件設計

      2。符合工業標準的冶金分析

      操作簡單

      甚至新手操作員也可以輕松地進行觀察、分析結果和創建報告。

      1輕松恢復顯微鏡設置

      2用戶指導有助于簡化分析

      3報表生成
      先進成像技術

      我們已證明的光學和成像技術提供清晰的圖像和可靠的結果。

      1可靠的光學性能:波前像差控制

      2清晰圖像:圖像陰影校正

      3一致的色溫:高強度白光LED照明

      4準確測量:自動校準


      模塊化

      選擇應用程序所需的組件。

      1。建立你的系統你的方式:完全可定制的系統與各種可選組件

      分析工具

      GX53顯微鏡的各種觀察能力提供清晰、清晰的圖像,因此您可以可靠地檢測樣品中的缺陷。奧林巴斯流圖像分析軟件的新的照明技術和圖像采集選項給你更多的選擇來評估你的樣品和記錄你的發現。


      無形變得可見:混合技術

      混合技術將暗視場與另一種觀測方法,如亮度場或偏振相結合,使你能夠用傳統的顯微鏡觀察難以看到的樣品。圓形LED照明器具有方向暗場函數,其中在給定時間照射一個或多個象限,減少樣品的光暈以更好地顯示表面紋理。

      印刷電路板的橫截面


      明場                                    暗場                                         混合:光明場+暗場

      襯底層和通孔是看不見的                     痕跡是看不見的。                    所有的組件都清楚地表示出來。


      不繡鋼


      明場                                       暗場                                混合:明場+暗場

      紋理是不可見的                           消除了顏色信息                    材料顏色和紋理都是可見的

      輕松創建全景圖像:即時MIa

      通過多個圖像對齊(MIA),您可以簡單地通過在手動檔上移動XY旋鈕來拼接圖像。電動級是可選的。奧林巴斯流軟件使用模式識別來生成全景圖像,使其成為檢測滲碳和金屬流動條件的理想工具。

      螺栓的金屬流動

      使用XY旋鈕調整工作平臺位置。                                             金屬全部形貌都可以看到。


      創建所有焦點圖像:EFI

      奧林巴斯Software軟件的擴展聚焦成像(EFI)功能捕獲樣本的圖像,其圖像的高度超出焦點深度。EFI將這些圖像疊加在一起,以創建樣本的全聚焦圖像。即使在分析具有不平坦表面的橫截面樣品時,EFI也產生完全聚焦的圖像。

      EFI與手動或電動Z軸一起工作,并創建高度圖來可視化結構。

      樹脂零件


      用調焦手柄調整物鏡的高度。        EFI自動捕獲并堆疊多個圖像以創         完全聚焦的圖像被創建。

      建樣本的單焦點圖像。

      用HDR捕獲亮區和暗區

      使用先進的圖像處理,高動態范圍(HDR)調節圖像中亮度的差異以減少眩光。它也有助于提高低對比度圖像的對比度。HDR可用于觀察電子器件中的微小結構并識別金屬晶粒邊界。

      鍍金板

      有些地區有眩光。                                            暗區和亮區都用HDR清楚地暴露出來。


      鉻擴散涂層

      對比度低 不清楚。                                                     HDR 增強對比度。

      奧林巴斯流軟件-優化材料科學

      GX53顯微鏡和奧林巴斯流軟件共同支持符合不同工業標準的冶金分析方法。通過逐步的操作員指導,用戶可以快速而容易地分析他們的樣本。

      粒子分析計數與測量解決方案

      計數和測量解決方案使用先進的閾值方法,以可靠地分離物體,如顆粒和劃痕,從背景。超過50種不同的對象測量和分類參數是可用的,包括形狀、大小、位置和像素屬性。

      常規軟件                                  腐蝕鋼顯微組織                                     奧林巴斯

      晶界不清                              (原始圖像)                                    清楚地檢測到晶界。


      分類結果

      顯微組織中的晶粒尺寸

      測量了鋁、鋼晶體結構,如鐵素體和奧氏體等金屬的晶粒尺寸和顯微組織。

      支持標準:ISO、GOST、ASTM、DIN、JIS、GB/T

      鐵素體晶粒的顯微組織

      粒徑截距解                                           二次相粒度測定


      石墨球度評價

      評價鑄鐵試樣(結節和蠕蟲狀)中的石墨球化度和含量。對石墨節點的形狀、分布和尺寸進行分類。

      支持標準:ISO、NF、ASTM、KS、JIS、GB/T

      球墨鑄鐵球墨鑄鐵

      鑄鐵溶液

      高純鋼中非金屬夾雜物含量的評定

      使用在樣品中手工發現的壞的或差的夾雜物的圖像對非金屬夾雜物進行分類。

      支持標準:ISO、EN、ASTM、DIN、JIS、GB/T、UNI

      非金屬夾雜物鋼

      比較樣品和參考圖像的圖像

      輕松地比較活的或靜止的圖像與自動縮放參考圖像。該解決方案包括根據各種標準(附加的參考圖像可以單獨購買)的參考圖像。支持多種模式,包括實時覆蓋顯示和并排比較。

      支持標準:ISO、EN、ASTM、DIN、SEP

      非金屬夾雜物鋼                                 鐵素體晶粒組織

      簡單有效的檢查

      使用GX53顯微鏡和奧林巴斯流軟件采集不同樣品的圖像,進行各種分析,并生成專業報告。

      輕松恢復顯微鏡設置:編碼硬件

      編碼功能將顯微鏡的硬件設置與奧林巴斯流圖像分析軟件集成在一起。觀察方法、照明強度和放大率可以被記錄并存儲在相關圖像中。這些設置很容易再現,使得不同的操作員可以進行有限的培訓,同樣的質量檢查。

      不同的操作員使用不同的設置。使用流軟件檢索設備設置。 所有的操作員都可以使用相同的設置。

      用戶指導有助于簡化分析

      該軟件逐步引導用戶通過符合所選擇的工業標準的檢查過程。操作人員可以簡單地通過屏幕上的引導進行分析。

      報表生成

      創建報告通常要比捕獲圖像和測量花費更長的時間。奧林巴斯流軟件提供了直觀的報告創建,以根據預先定義的模板重復生成復雜的報表。

      奧林巴斯倒置金相顯微鏡GX53標準配置參數

      光學系統光學系統

      UIS2光學系統(無限校正)

      顯微鏡架

      反射光照明

      鏡像單元的手動亮場/暗場選擇
       定心手動停止/孔徑停止開關
       光源:White LED(光強管理器)/ 12伏,100瓦鹵素燈/ 100 W汞燈/光導光源
       觀測模式:亮場、暗場、差分界面對比度(DIC)* 1、簡單偏振* 1、混合觀測(4方向暗場)* 2
       *    1滑塊使用此觀察是需要的。* 2混合觀測配置是需要的。

      透射光照明
       (可選)

      要求透射光(IX2-IL100:具有場停止)
       PMG3-LWCD:具有孔徑光闌的Condenser(NA 0.6,WD    12 mm)
       光源:White LED(帶光強管理器)12伏,100瓦鹵素燈
       觀測模式:亮場,簡單極化

      目鏡刻度尺

      所有端口從目鏡看到的觀察位置顛倒位置(向上/向下)。

      輸出前端端口(可選)

      攝像機和DP系統(反向圖像,GX專用攝像機適配器)

      輸出側端口(可選)

      攝像機、DP系統(直立圖像)

      電氣系統

      反射光照明
       用于反射光照明的內置LED電源
       連續可變光強刻度盤
       輸入額定值5伏直流,2.5 A(交流適配器100    - 240伏,交流0.4 A,50赫茲/ 60赫茲)
       透射光照明(需要可選的BX3M PSLED電源)
       連續可變光強分接電壓
       輸入額定值5伏直流,2.5 A(交流適配器100    - 240伏,交流0.4 A,50赫茲/ 60赫茲)
       外部接口(需要可選的BX3M CBFM控制盒)
       編碼管接頭連接器×1
       混合滑塊(U-MIX)連接器×1
       手機(BX3M HS)連接器×1
       手機(U-HEXIP)連接器×1
       RS-232C連接器×1,USB 2連接器×1

      調焦機構

      帶滾輪導軌的齒輪齒條
       手動、粗、細同軸手柄;聚焦行程9毫米(2毫米以上,舞臺表面以下7毫米)
       每轉精細手柄行程:100μm(分鐘尺度:1μm)
       粗手柄每轉行程:7毫米
       具有扭矩調節環的粗聚焦
       用于粗聚焦的上限止動器

      觀察頭

      Widefield (FN 22)

      倒置:雙目(U-Bi90,U-Bi90CT),三目(U-Tr30H-2),傾斜雙目(U-TBI90)

      鼻甲

      明場孔:4至7個PCS,類型:手動/編碼,定心:啟用/禁用
       亮場/暗場孔:5到6個PCS,類型:手動/編碼,定心:啟用/禁用

      平臺

      GX(X/Y行程:50×50毫米,超大負荷5千克)右手柄級
       靈活的右手柄級,左短手柄級(每X/Y行程:50×50 mm,大載荷1千克)
       滑動階段(大負荷1公斤)
       一組淚滴和長孔類型

      重量

      約25公斤(顯微鏡架20公斤)

      環境

      室內使用
       環境溫度:5~40°C(45~100°F)
       較大相對濕度:80%℃至31℃(88°F)(不冷凝)
       在超過31°C(88°F)的情況下,相對濕度在34°C(93°F)、70%°C和37°C時線性減小到了70%。
       (99°F),在40°C(104°F)為50%。
       污染程度:2(符合IEC60664—1)
       ?安裝/過電壓類別:II(符合IEC60664—1)
       電源電壓波動±10%

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